От фоторезиста до лазера: как Россия создаёт собственное литографическое оборудование для микроэлектроники

Освоение литографа для топологии 130 нанометров планируется завершить до конца 2026 года. Первый вице-премьер Денис Мантуров подтвердил эти сроки в феврале, а министр промышленности и торговли Антон Алиханов уточнил, что серийные поставки таких установок могут начаться с 2027 года. Разработкой занимается Зеленоградский нанотехнологический центр. Оборудование будет работать с пластинами диаметром 150 и 200 миллиметров, используя длину волны 248 нанометров. Установка оптимизирована для фотонных интегральных схем и поддерживает подложки различных типов. Параллельно в 2026 году начнётся работа над литографом для топологии 90 нанометров. Для этого потребуется использование эксимерных лазеров с длиной волны 193 нанометра. Лазеры, разрабатываемые для 130-нанометровой версии, открывают путь к переходу на более тонкие техпроцессы.

Ключевым достижением стало начало испытаний отечественного фоторезиста в мае 2025 года. Резидент особой экономической зоны «Технополис Москва» — завод «Микрон» — тестирует материал, разработанный НИИМЭ, для 90-нанометровой технологии. Фоторезист представляет собой светочувствительное вещество, необходимое для переноса рисунка схемы на пластину. Успешное тестирование позволяет снизить зависимость от иностранных материалов и в перспективе полностью перейти на отечественную компонентную базу. Это особенно важно, так как расходные материалы требуют постоянного пополнения, и их отсутствие может остановить всё производство.

Источники излучения представляют собой ещё один критический элемент. В 2024 году калужская группа компаний «Лассард» произвела первые опытные образцы эксимерных лазеров, работающих на длинах волн 248 и 193 нанометра. Эти устройства являются ключевыми компонентами для литографов 130 нанометров и перспективных 90 нанометров. Ранее подобные лазеры в России не производились, что создавало зависимость от зарубежных поставщиков. Теперь отечественные разработки позволяют замкнуть технологическую цепочку внутри страны. Государственная поддержка усиливается: в марте 2026 года Российский научный фонд объявил восемь конкурсов по направлению «Микроэлектроника». Они охватывают разработку систем управления литографами, лазерно-оптических систем экспонирования, а также создание компонентов для СВЧ- и оптоэлектронных приборов.

Технология 90 нанометров остаётся востребованной в сферах, где критичны надёжность и устойчивость к внешним воздействиям. Чипы с такой топологией широко используются в автомобильной промышленности, энергетике, телекоммуникационном оборудовании и системах управления критической инфраструктурой. Появление собственной линейки литографического оборудования и расходных материалов к нему должно обеспечить технологический суверенитет в этом ключевом сегменте. Для промышленности это означает возможность производить микросхемы без оглядки на внешние ограничения. Для экономики — снижение зависимости от импорта и создание новых высокотехнологичных рабочих мест.

Подготовка кадров идёт параллельно с техническими разработками. Инженеры и технологи осваивают новые процессы, учёные совершенствуют методики. Производители комплектующих масштабируют выпуск узлов и агрегатов, чтобы обеспечить потребности серийного производства. Логистические цепочки перестраиваются с учётом отечественных поставщиков, что требует времени и координации. Успех создания литографа — только первый шаг, за которым следует не менее сложная задача выхода на плановые темпы выпуска и обеспечения стабильного качества.

Подводя итог, 2026 год становится проверкой способности российской микроэлектронной отрасли завершить долгосрочные проекты и перейти к серийному производству собственного литографического оборудования. Освоение топологий 130 и 90 нанометров откроет доступ к производству чипов для критически важных отраслей. Для промышленности это возможность заменить импортные компоненты на отечественные аналоги. Для страны — шаг к технологической независимости в условиях внешних ограничений. Риски сохраняются: любые задержки в разработке ключевых компонентов или финальных испытаниях могут сдвинуть графики. Однако достижение заявленных целей станет важным сигналом для рынка: отечественная микроэлектроника способна не только разрабатывать новые технологии, но и доводить их до промышленного применения. Дальнейший прогресс будет зависеть от слаженности работы всех участников цепочки — от конструкторов до эксплуатантов.